光刻机是我国芯片制造业的一个主要痛点。
目前，EUV光刻机中只有ASML。
然而，在“沃森协议”的约束下，ASML不能将EUV光刻机出售给中国大陆。
可以说，光刻机的短缺严重地困扰着中国芯片的脖子。
为了实现国产芯片的独立可控性，许多研究机构已经开始探索绕过光刻机的方法。
西湖大学开发的制冰机就是其中之一。
刨冰机的工作原理和过程刨冰机的物理原理非常简单：在零以下近140°的真空环境中，水可以直接凝结成冰。
制冰机是根据水的凝结原理来实现光刻机的功能。
根据制冰机的研究人员的说法，将样品放入真空装置后，必须先降低温度，然后再注入水蒸气，使稀薄的冰升华到样品和一层“冰”上。
凝胶”形成了。
这层的“冰胶”被称为“冰胶”。
取代了传统芯片制造中光致抗蚀剂的作用。
值得注意的是，抗冰剂不是普通的冰，而是结合了光致抗蚀剂和冰的特性的新型化学合成的冰。
被电子束撞击的冰将立即蒸发，从而直接雕刻冰盖。
经过一系列的处理步骤，成功地将冰雕而成的芯片揭幕。
冰雕机的优势与光刻机相比，冰雕机具有很多优势。
一种是制冰机解决了光致抗蚀剂的许多缺点。
在传统的芯片制造过程中，第一步是将光刻胶均匀地散布在样品上。
一旦此过程做得不好，生产过程中很容易出现问题。
此外，光刻胶对所施加样品的材料和面积有要求，并且不应太小或太脆。
抗冰剂更“任意”。
水蒸气可以包裹在任何形状的表面上，并且非常轻，不会影响加工后的材料。
另外，使用抗冰剂可以直接消除用化学试剂清洗成型模具的步骤，并且不会由于光致抗蚀剂残留而导致收率低的问题。
第二个是冰雕技术更清洁。
在传统的芯片生产过程中，有必要用化学试剂多次冲洗光致抗蚀剂，但是冰蚀刻技术不需要这样做。
因为在冰融化或变成水蒸气后，它将消失得无影无踪。
这样，可以大大减少由清洗胶水引起的污染。
如今，西湖大学纳米光学与仪器技术实验室负责人邱敏和他的团队已经征服了这个领域长达八年之久，并且逐渐取得了许多成就。
该团队在NanoLetter和Nanoscale等期刊上发布了一系列研究结果。
如今，它已经发展了我国第一个“冰雕”技术。
系统;目前，冰雕系统2.0也在全面开发中。
将来，冰雕技术可能会在三维维纳的加工中得到更广泛的应用。
邱敏和他的团队已经通过实验证明，冰雕技术不是很好，而是实用的。
冰雕技术可以绕过光刻机吗？那么，冰雕技术有这么多优势，是否可以帮助国产芯片绕过光刻机？答案还没有。
目前，制冰机仍处于实验室阶段，走向商业化的道路很长。
而且，冰雕机仍需克服两个主要问题。
首先，很难提高生产效率。
制冰机采用电子束加工，需要逐帧雕刻晶片的表面。
与光刻机相比，效率显着滞后。
其次，难以确保雕刻的准确性。
尽管冰雕机的工作原理听起来很简单，但是在实际操作中仍然存在许多困难的问题。
忽略任何小细节都会影响雕刻的准确性。
研究小组仅通过注入水蒸气就进行了无数实验。
因此，在制冰机商业化的道路上仍然需要解决许多障碍。
写在最后。
如今，世界上只有两个实验室进行冰雕，其中一个在西湖大学。
没有以前的经验作为指导，制冰机的研发只能通过摸到石头才能渡河。